商业秘密则不需要特定的申请程序或公开要求，只需要保持秘密状态。商业秘密则无需支付专门费用或进行特定的程序。商业秘密被侵权时，商业持有人可以寻求法律救济，但需要证明其是真正的商业秘密，并且未经授权被披露。
专利和商业秘密是保护创新和知识产权的两种不同的方式。以下是它们之间的主要差异表现：
1. 形式要求：专利需要向专利局提交申请，并公开具体的创新内容，以换取在一定期限内的保护。商业秘密则不需要特定的申请程序或公开要求，只需要保持秘密状态。
2. 保护范围：专利通常对公众公开，且只能保护特定的技术、发明或方法。商业秘密可以广泛应用于各种商业信息，如市场策略、客户清单、产品配方等。
3. 保护期限：专利一般保护期限为20年，到期后专利信息将公开。商业秘密的保护期限可以长期延续，只要保持秘密状态。
4. 成本和申请程序：专利的申请和维持费用相对较高，申请过程也较为复杂。商业秘密则无需支付专门费用或进行特定的程序。
5. 可获得补救措施：当他人侵犯专利权时，专利持有人可以提起诉讼并获得法律保护，可以索赔和要求停止侵权行为。商业秘密被侵权时，商业持有人可以寻求法律救济，但需要证明其是真正的商业秘密，并且未经授权被披露。
综上所述，专利和商业秘密在形式要求、保护范围、保护期限、成本和申请程序以及补救措施等方面存在明显的差异表现。