专利和商业秘密是两种不同的知识产权保护方式，它们具有不同的表现。专利是一种由国家授予的独占权利，用于保护新发明的技术或产品。
专利和商业秘密是两种不同的知识产权保护方式，它们具有不同的表现。
专利是一种由国家授予的独占权利，用于保护新发明的技术或产品。具体表现包括：
1. 专利拥有者将其发明公开，向专利局提交专利申请，并获得专利权。
2. 专利权为专利拥有者提供了在特定领域内独家生产、使用、销售和许可该项发明的权利。
3. 专利权通常在专利申请提交后的一段时间内有效，一般为20年。
4. 专利拥有者可以通过专利保护来防止他人在该技术或产品上的未经授权的商业活动。
商业秘密是一种对商业信息进行保护的方式，包括商业计划、客户列表、生产方法、销售数据等。具体表现包括：
1. 商业秘密的拥有者保持该信息的保密性，并采取必要的措施来保护其秘密性。
2. 商业秘密没有特定的保护期限，只要信息保持秘密，就可以受到保护。
3. 商业秘密拥有者可以通过合同和许可协议来限制其他人的访问和使用商业秘密。
4. 商业秘密可以为企业提供竞争优势，因为其他企业无法获得该信息。
因此，专利和商业秘密是不同的知识产权保护方式，它们在拥有权利的获取、保护期限和适用范围等方面都存在差异。