而专利申请需要公开披露发明的具体内容，使其成为公众技术，促进科技进步。此外，商业秘密的保护没有注册费用和期限，并且避免了专利费用、维护费用和年费等额外开支。而专利公开后，他人可以查阅专利数据库，了解技术的具体内容，但专利持有者可以对非授权使用者提起法律诉讼。总体而言，商业秘密注重于信息的保密和内部控制，专利则注重于公开披露和授予专有权，选择何种方式取决于企业的需求和战略考量。
商业秘密和专利是两种不同的知识产权保护方式，其主要不同之处包括：
1. 定义和范围：商业秘密是一种未经公开的商业信息，包括技术、工艺、数据、客户列表等，对持有人具有商业价值且保密性被合理保护。而专利是指为发明者提供一种独家权利的法律保护，即对发明的新颖、有创造性和可工业应用的技术进行专利申请，获得授予后可以在一定时间内阻止他人的使用、制造、销售等行为。
2. 保护期限：商业秘密的保护期限没有固定时间限制，只要秘密保持机密性、保密措施得当，就可以持续保护。而专利的保护期限通常为20年，保护期限结束后，该技术就会进入公有领域，任何人都可以使用。
3. 公开程度：商业秘密不需要公开披露，可以完全保持机密，只有掌握秘密的人才能利用。而专利申请需要公开披露发明的具体内容，使其成为公众技术，促进科技进步。
4. 获取门槛和成本：商业秘密的获取相对简单，只需要合理的保密措施和安全管理。而专利的申请过程相对复杂，需要进行技术审查和费用支出。此外，商业秘密的保护没有注册费用和期限，并且避免了专利费用、维护费用和年费等额外开支。
5. 揭示和阻止他人使用：商业秘密无需公告或公开，持有者可以自由选择披露给特定人员或机构，也无法通过法律方式阻止他人使用同一技术。而专利公开后，他人可以查阅专利数据库，了解技术的具体内容，但专利持有者可以对非授权使用者提起法律诉讼。
总体而言，商业秘密注重于信息的保密和内部控制，专利则注重于公开披露和授予专有权，选择何种方式取决于企业的需求和战略考量。