一旦专利权过期，任何人都可以自由使用该技术。商业秘密只能在未经授权的情况下阻止他人披露或使用商业秘密。商业秘密则是不公开的信息，并且要求非常保密。商业秘密的保护则无需支付费用，只需要自行采取保密措施。总之，专利和商业秘密是两种不同的知识产权保护方式，各有其适用的情况和优势。
专利和商业秘密是两种不同的知识产权保护方式，它们的差异主要体现在以下方面：
1. 公开性：专利是一种公开的知识产权，申请人必须向专利局提交详细的专利申请文件，经过审查后才能获得专利权，并在一定时期内公开。而商业秘密则是不公开的信息，只有知道商业秘密的人才能知晓其内容。
2. 保护期限：专利的保护期限是有限的，通常为20年。一旦专利权过期，任何人都可以自由使用该技术。商业秘密没有固定的保护期限，只要保持其秘密性，就可以无限期地保护。
3. 可保护的内容：专利主要用于保护新的发明、实用的新型和外观设计，即技术创新。商业秘密则用于保护商业经营方面的机密信息，例如客户名单、制造工艺、商业计划等。
4. 获得保护的要求：要获得专利保护，必须满足专利法规定的创造性、实用性和可实施性要求，并通过专利局的审核。而商业秘密的保护则无需注册或审核，只需要采取适当的保密措施。
5. 受保护范围：专利在授予专利权后，可以阻止他人在保护范围内使用、制造、销售或进口该专利技术。商业秘密只能在未经授权的情况下阻止他人披露或使用商业秘密。
6. 披露要求：申请专利需要向专利局公开发明的细节，并在获得专利权后向公众披露。商业秘密则是不公开的信息，并且要求非常保密。
7. 所需成本：专利申请和维权需要支付一定的费用，包括申请费、审查费和维持费等。商业秘密的保护则无需支付费用，只需要自行采取保密措施。
总之，专利和商业秘密是两种不同的知识产权保护方式，各有其适用的情况和优势。企业在选择保护自身技术或商业信息时，需要根据具体情况权衡利弊并选择合适的保护方式。