而专利需要在申请时公开，使得他人可以查阅该技术的内容，但在专利授予之前具备临时保密措施。专利的有效期通常为20年，授予专利后可以享受专有权利，并可以防止他人在授权范围内使用该技术。而要获得专利权，需要提交专利申请，经过审查和授权程序，需支付申请费用和维持费用。而专利权可以通过法律途径防止他人侵权，并可以获得损害赔偿。
商业秘密和专利是知识产权保护的两种不同方式，它们之间存在几点主要的差异：
1. 内容不同：商业秘密是对商业信息的保护，包括技术信息、商业计划、客户列表等。而专利是对发明技术的保护，必须是技术方案的新、有创造性和工业适用性。
2. 需要保密与公开性：商业秘密要求对信息进行秘密保护，不向公众公开，保持独占性。而专利需要在申请时公开，使得他人可以查阅该技术的内容，但在专利授予之前具备临时保密措施。
3. 有效期和保护范围：商业秘密的有效期不固定，只要保持秘密性即可保护，但一旦泄露就无法再享受保护。专利的有效期通常为20年，授予专利后可以享受专有权利，并可以防止他人在授权范围内使用该技术。
4. 获得要求和成本：商业秘密不需要特定的授权或注册，任何人都可以通过保密措施进行保护。而要获得专利权，需要提交专利申请，经过审查和授权程序，需支付申请费用和维持费用。
5. 防御和违约风险：商业秘密在泄露时可以追究法律责任，但难以恢复商业价值。而专利权可以通过法律途径防止他人侵权，并可以获得损害赔偿。
综上所述，商业秘密和专利在知识产权保护方面有着不同的特点和应用场景，企业在选择保护方式时需要综合考虑技术的特点、商业需求、成本和风险等因素。