而商业秘密通常只有内部员工或与之签署保密协议的人才能够了解。
以下是专利和商业秘密之间常见的差别表现：
1. 受保护的内容：专利保护的是发明、创造性的技术、产品或方法的具体实现方式，而商业秘密则保护的是商业信息、方法、流程、数据库等。
2. 公开性：专利需在专利局提交申请，并在一定时间后公开，公众可以获得相关信息。而商业秘密通常只有内部员工或与之签署保密协议的人才能够了解。
3. 保护期限：专利保护期通常较长，特定类型的专利可以保护20年甚至更长时间，但商业秘密保护期无限制，只要保密措施得当，秘密便可以持续保护。
4. 受保护范围：专利保护给予专利权人在特定地理区域内对他人的禁止权，即不能未经许可制造、销售、使用等专利所涉及的技术。而商业秘密则是对未经许可的泄露、使用或抄袭进行法律控制。
5. 对他人知识产权的影响：商业秘密并不限制他人申请类似发明的专利，只要其独立发明且在公开之前，而专利则可以阻止他人在专利有效期内在相同领域申请类似的专利。
6. 保护措施：取得专利后，专利权人可以通过法律手段依法保护自己的权益，而商业秘密需要通过签署保密协议、限制员工的知识转移、加强网络安全等措施进行保护。
7. 信息披露：获得专利权后，专利申请人需要在专利局公开发明的详细信息。然而，商业秘密不需要公开，只有在需要与他人共享信息或与其合作时，才会进行限制的披露。