而专利要求公开发明的技术细节，并且要求满足专利法规定的创新性、实用性和非显而易见性的要求。而获得专利保护需要向专利局提交申请，并支付一系列的费用，例如申请费、年费等。而专利授权后拥有独占性权利，能够有效地阻止他人未经许可使用、制造、销售或分发该发明。综上所述，商业秘密和专利在保护范围、保护期限、要求、申请费用和保护效力等方面存在显著的差别。
商业秘密和专利是保护商业创新和竞争优势的两种不同的法律工具。
主要差别包括：
1. 保护范围：商业秘密可以涵盖任何商业信息，包括技术、流程、经验、客户列表等，只要它们具有商业价值并保持保密。而专利保护的是发明的新颖、实用和非显而易见性。
2. 受保护期限：商业秘密在保持秘密的状态下可以永久保护，没有设定固定的保护期限。而专利在授权后通常可享受20年的保护期限。
3. 获得保护的要求：商业秘密通常要求保持保密，即必须采取合理的保密措施来确保信息不被公开。而专利要求公开发明的技术细节，并且要求满足专利法规定的创新性、实用性和非显而易见性的要求。
4. 申请和费用：商业秘密不需要申请或支付任何费用。而获得专利保护需要向专利局提交申请，并支付一系列的费用，例如申请费、年费等。
5. 保护范围和效力：商业秘密的保护范围较难界定，取决于商业秘密保持的程度和保密措施的有效性。而专利授权后拥有独占性权利，能够有效地阻止他人未经许可使用、制造、销售或分发该发明。
综上所述，商业秘密和专利在保护范围、保护期限、要求、申请费用和保护效力等方面存在显著的差别。根据具体情况，企业可以选择商业秘密或专利来保护其创新和竞争优势。