而商业秘密则是企业内部保留的保密信息，不对外公开。而商业秘密则要求对信息进行保密措施，一旦有人未经授权获取或披露商业秘密，侵权责任将由侵权人承担。综上所述，专利和商业秘密在保护范围、公开性、保护期限、侵权责任、获取保护的要求等方面存在明显的不同。企业可以根据其具体情况选择适合的知识产权保护方式。
专利和商业秘密在保护企业知识产权方面具有不同的特点和体现。
1. 公开性：专利需要向政府机构申请并公开发表，成为公共信息，任何人都可以获取并使用。而商业秘密则是企业内部保留的保密信息，不对外公开。
2. 保护期限：专利享有一定的保护期限，通常为20年，之后该技术或发明将进入公有领域。商业秘密则没有固定的保护期限，只要保持秘密性且具有商业价值，就可以一直保护并使用。
3. 其他人侵犯：专利授予了专有权，任何未经授权的人使用、制造、销售该专利技术都构成侵权。而商业秘密则要求对信息进行保密措施，一旦有人未经授权获取或披露商业秘密，侵权责任将由侵权人承担。
4. 需要公示的权利范围：专利申请时需要详细披露技术内容和权利范围，以便确定专利的保护范围。商业秘密则不需要进行公示，只需要内部保密即可。
5. 获得保护的要求：专利需要通过专利法规定的专利审查程序获得法律保护，即需要满足创新性、实用性、可工业化等要求，才能被授予专利权。商业秘密则只需要保持秘密性和商业价值即可，不需要特定的法律程序。
综上所述，专利和商业秘密在保护范围、公开性、保护期限、侵权责任、获取保护的要求等方面存在明显的不同。企业可以根据其具体情况选择适合的知识产权保护方式。