实用新型和发明在知识产权领域有着不同的法律保护方式和要求。-发明需要具备相对于现有技术的显性创造性，即具有创新水平和突破性。综上所述，实用新型和发明在创造性要求、专利申请、保护范围和有效期限等方面存在明显差异。实用新型主要回归于结构和形状的改进，申请要求较低；而发明则要求具备具有技术方案、技术效果和技术手段方面的创造性，申请要求较高。
实用新型和发明在知识产权领域有着不同的法律保护方式和要求。
1. 创造性要求：
- 实用新型需要具备相对于现有技术的创造性，即具有新颖性和非显性。
- 发明需要具备相对于现有技术的显性创造性，即具有创新水平和突破性。
2. 专利申请：
- 实用新型可以通过实用新型专利申请来获得保护，申请要求相对较低，审查周期较短。
- 发明则需要通过发明专利申请来获得保护，申请要求相对较高，包括明确的技术方案和详细的技术描述，审查周期较长。
3. 保护范围：
- 实用新型的保护范围相对较窄，主要包括结构和形状上的新型设计或改进。
- 发明的保护范围相对较广，包括技术方案、技术效果和技术手段。
4. 有效期限：
- 实用新型的有效期限为10年，自申请日起计算。
- 发明的有效期限为20年，自申请日起计算。
综上所述，实用新型和发明在创造性要求、专利申请、保护范围和有效期限等方面存在明显差异。实用新型主要回归于结构和形状的改进，申请要求较低；而发明则要求具备具有技术方案、技术效果和技术手段方面的创造性，申请要求较高。