而商业秘密则要求对关键商业信息保密，不公开披露给外界。未经授权披露或使用商业秘密可能构成商业秘密侵犯，权利人可以采取法律手段保护其权益。总之，专利和商业秘密是两种不同的知识产权保护方式，具有不同的保护范围、保护期限和获得方式。
专利和商业秘密是保护创新和知识产权的两种不同方式。它们之间存在一些明显的差异，可以通过以下几个方面进行区分：
1. 公开性：专利要求对创新进行公开披露，文书化地记录创新内容，使他人能够了解并在专利权保护期限内使用该创新。而商业秘密则要求对关键商业信息保密，不公开披露给外界。
2. 保护期限：专利权的保护期限通常为20年，专利过期后，其创新内容将进入公有领域，任何人可以自由运用。而商业秘密则没有固定的保护期限，只要秘密保持不被揭示，可以一直由原权利人保护。
3. 保护范围：专利权只适用于技术、发明或设计的具体实施方案，他人未经许可不能使用该实施方案。商业秘密的保护范围较广，可以包括各种商业信息，如经营模式、销售策略、客户清单等。
4. 获得方式：获得专利需要向专利局递交申请并经过审查批准，只有通过审查的专利申请才能获得专利权。商业秘密则可以通过保密协议等内部措施来保护。
5. 违法和侵权：未经专利权人许可使用专利的行为会构成专利侵权，权利人可以依法追求责任和赔偿。未经授权披露或使用商业秘密可能构成商业秘密侵犯，权利人可以采取法律手段保护其权益。
总之，专利和商业秘密是两种不同的知识产权保护方式，具有不同的保护范围、保护期限和获得方式。具体选择哪种方式，应根据创新内容的性质、保护的需求以及商业策略等因素来综合考虑。